ГЕНЕРАЦИЯ ЭЛЕКТРОННОГО ПУЧКА ФОРВАКУУМНЫМ ПЛАЗМЕННЫМ ИСТОЧНИКОМ С ОДИНОЧНЫМ ЭМИССИОННЫМ КАНАЛОМ ПРИ НАЛИЧИИ МАГНИТНОГО ПОЛЯ

Рассмотрено влияние продольного магнитного поля в разрядно-эмиссионной системе форвакуумного плазменного источника электронов на условия генерации сфокусированного электронного пучка с высокой удельной мощностью. Показано, что создание магнитного поля с индукцией до 0.4 мТл обеспечивает возможность расширения эмиссионного канала, и, соответственно, увеличение тока и плотности тока электронного пучка при сохранении электрической прочности ускоряющего промежутка. В результате плотность мощности электронного пучка форвакуумного плазменного источника электронов повышена до величины q = 1.5  ⋅  106 Вт/см₂ .
  Автор:  И. Ю. Бакеев, А. А. Зенин, А. С. Климов, Е. М. Окс
Ключевые слова:  электронный пучок, плазменный источник электронов, эмиссионный канал, магнитная фокусировка, продольное магнитное поле, форвакуумная область давлений.
Стр:  1390