Очистка поверхности кремниевых структур в технологии сбис с применением быстрой термообработки

Изложены результаты исследования качества очистки поверхности кремния, двуокиси кремния и пленок алюминия с применением быстрой термической обработки перед нанесением фоторезиста и ее влияние на процесс ухода линейных размеров при травлении топологического рисунка. Все результаты рассмотрены в сопоставлении с традиционными методами очистки поверхности. Приведены параметры элементов сверхбольших интегральных схем, изготовленных с применением быстрой термической обработки для очистки поверхностей различных тонкопленочных материалов на кремнии.
Автор:  Пилипенко В. А., Пономарь В. Н., Горушко В. А.
Стр:  103-106